載帶膠盤是一種常用于存儲數據的光學介質，在制作過程中需要經過多個工藝流程，以下是載帶膠盤的典型制作工藝流程：

　　1.基片清潔：

　　首先將透明的基片放入清洗機中，清洗去除基片表面各種雜物、油污等，清潔是制作高品質載帶膠盤的重要步驟，在此之后必須進行干燥。

　　2.底層反射膜涂布：

　　將經過清潔、干燥的基片送入涂層機中，噴涂特殊組合物制備底層反射膜，反射膜主要起反射光線和控制介質反射率的作用。

　　3.光敏膠涂布：

　　經過底層反射膜的基片送入光刻機，將光刻膠涂布到基片上，光刻膠是介質的核心材料，其含量的多少和質量的高低會直接影響到最終產品的品質。

　　4.光刻：

　　使用特殊光源在光敏膠表面照射出一個“拍攝”，即將圖案在光敏膠上呈現出來，此步驟完成后，通過顯影、清洗等步驟，將光敏膠中非固定部分清除掉，形成孔洞結構。

　　5.金屬化：

　　在光刻制得的孔洞結構表面噴涂金屬材料制備一層導電層，此導電層可以對激光發(fā)射產生反應。

　　6.中間層涂敷：

　　制成的光敏孔洞結構基片在經過金屬化后送入涂層機，再次進行噴涂特殊的成分級混合物形成基片的中間層。

　　7.上層涂布：

　　上層墨盒的墨水可在CD基片上面形成保護層，還可以增強光盤的反射能力。

　　8.固化：

　　將搭建好的基片送到紫外固化爐中，將軟化狀態(tài)的中間層和上層材料固化成一體，最終形成一個具有完整結構的翻蓋塑料光學盤，進行包裝和出售。